电子束曝光系统
电子束曝光系统

联 系 人:  骆英民

邮      箱:  ymluo@dlut.edu.cn

电      话:  18641139183

地      址:  开发区校区-开发区信息楼-109

生产厂家: 捷克泰思肯

型      号:  MAGNA0304070202

购买日期: 2024/04/12

预约
参考收费标准
无
开放机时安排
无
主要规格和技术参数
1、二次电子分辨率(SE):15kV:≤0.6nm,1kV:≤0.9nm; 2、背散射分辨率(BSE):≤1.6nm; 3、放大倍数范围：5-2,000,000倍，粗、细调模式连续可调； 4、最大束流：≥400nA,电子束流连续可调； 5、样品台移动范围：X≥80mm,Y≥60mm,Z≥45mm, 6、曝光最小线宽：≤20nm; 7、束斑选择：束斑连续可调，最小束斑优于1.5nm 8、单次最大曝光面积：4mm*4mm;
主要功能及特色
1、样品高分辨观察； 2、样品微区成分分析； 3、微纳米尺度图形加工；
主要附件及配置
电子束曝光系统主机，等离子清洗器、电子束闸，图形发生器等