1. 能量扫描范围：100-4000eV，最大束流4 μA；
2. 最佳能量分辨率：≤0.5 eV FWHM；
3. 最佳空间分辨率：≤30 μm；
4. 绝缘样品：C1s能量分辨率≤0.82 eV，灵敏度8 kcps；
5. 分析室最佳真空：5×10-9 mbar；开中和枪状态下，分析室真空度范围为1×10-7 mbar ~ 5×10-7 mbar；
6. UPS灵敏度：2200000cps。
7. 光电子接收角：± 30°
8. X射线光斑大小：30~400μm；
9. X射线能量：1486.6 eV
10. 核电校准时，使用284.8eV校正污染碳峰

固体样品表面被X-射线激发，出射二次光电子，通过能量分析器对二次光电子的能量分布进行分析，从而识别材料表面的元素组成与化学价态信息，实现元素含量半定量的分析。通过对样品表面的可控离子刻蚀，可以进一步获得厚度方向上的元素分布信息，从而实现对样品的深度剖析。还可利用UPS（紫外光电子能谱）研究固体样品的价电子和能带结构及功函数。XPS这种表面敏感的技术手段对于确定催化剂活性中心、半导体界面处的载流子复合中心及实现相应的缺陷钝化具有不可替代的作用。

1. 常规XPS测试
2. 深度剖析XPS测试
3. 角分辨XPS测试
4. 准原位XPS测试（使用真空转移仓，对水、氧敏感样品进行测试）
5. 紫外光电子能谱UPS