1、样品台。直径50mm的drop-in落入式快换样品台。
2、真空系统。50L/m旋转机械泵+70L/s涡轮分子泵，极限真空度为10-5mbar。
3、真空规。皮拉尼真空规，测量范围1000mbar到10-4mbar。
4、溅射工作真空范围5×10-3到5×10-1mbar。
5、溅射电流0-150mA。
6、溅射时间。可以预设，一次真空条件下总溅射时间可设置长达60min。
7、溅射靶材配有金钯。
8、碳蒸发头。采用直流电源蒸发，配置直径3.05mm碳棒蒸发头。
9、蒸发电流1-90A。

可用于普通扫描电镜（SEM）镀膜制样、高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）镀膜制样和材料科研领域镀膜，也可作为SEM/EDS蒸镀碳导电膜。

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