磁控溅射系统
磁控溅射系统
负责人员
宋金会, 陈路华, 褚健, 曾相喆, 章嘉豪, 张赫哲, 陈宏亮, 熊傲冲
存放地址
主校区知方楼（新校区机械学院大楼）1077(1079)
联系电话
15542630930
送样
仪器编号
20192432
规格
PVD75
生产厂家
Kurt J. Lesker
型号
PVD75
制造国家
中国
分类号
0306030208
出厂日期
2023-11-06
购置日期
2018-03-05
入网日期
2022-03-05
主要规格及技术指标

关键参数：
1. 系统极限压强可达≤2x10-7Torr
2. 3部标准磁场溅射靶枪，靶材尺寸为4英寸
3. 衬底最高加热温度350℃。控温精度±1℃

主要功能及特色

可制备各种金属与非金属薄膜材料，并可实现多靶共溅射制备合金薄膜；配有氧气、氮气两路反应气体，可进行反应溅射制备氧化物和氮化物薄膜材料。

主要附件及配置

无
暂无关联门禁
暂无收费信息