主要规格及技术指标
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可进行硅样品表面的高温热氧化工艺,氧化膜厚度500nm-2.7um |
主要功能及特色
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可进行硅样品表面的高温热氧化工艺,氧化膜厚度500nm-2.7um |
主要附件及配置
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无 |