反应离子刻蚀机
反应离子刻蚀机
负责人员
宋金会, 陈路华, 曾相喆, 章嘉豪, 张赫哲, 陈宏亮
存放地址
主校区知方楼（新校区机械学院大楼）-1081(1085)
联系电话
15542630930
仪器编号
2022A3AA
规格
RIE—400IPB
生产厂家
SAMCO Inc.
型号
RIE—400IPB
制造国家
中国
分类号
0508071302
出厂日期
2022-06-28
购置日期
2022-06-28
入网日期
2024-02-18
主要规格及技术指标

样品尺寸:最大4英寸基片最大深宽比:≥30:1最大刻蚀速率:>8um/min包括工艺:Bosch、硅纳米等刻蚀材料:硅刻蚀精度:最小线宽30nm，侧壁倾斜角度85°-92°可调均匀性:>95%
重复性:>95%

主要功能及特色

该设备用于博世MEMS工艺和电子元件工艺中的高速硅深孔加工

主要附件及配置

无
暂无关联门禁
暂无收费信息