图像刻写系统
图像刻写系统
负责人员
宋金会, 褚健, 曾相喆, 章嘉豪, 张赫哲, 陈宏亮, 熊傲冲
存放地址
主校区知方楼（新校区机械学院大楼）主校区知方楼（新校区机械学院大楼）-1081(1085)
联系电话
15542630930
送样
仪器编号
20237208
规格
RAITH-Pioneer Two
生产厂家
RAITH
型号
RAITH-Pioneer Two
制造国家
中国
分类号
0508010401
出厂日期
2023-09-13
购置日期
2023-09-13
入网日期
2024-02-18
主要规格及技术指标

关键参数：1、最小线宽≤8nm。2、最小曝光光束为1.6nm。

主要功能及特色

图像刻写系统(ebl)是一种高精度的纳米级制造技术，用于在微电子器件制造过程中进行图案转移。它利用电子束的高能量和聚焦能力，将所需的图案直接写入光刻胶或薄膜上，从而实现微细结构的制造。通常用于制造集成电路、纳米器件、光学元件和生物芯片等领域。相比传统的光刻技术，ebl具有更高的分辨率和更好的控制能力，可以实现更小尺寸的结构和更复杂的图案。

主要附件及配置

无
暂无关联门禁
暂无收费信息