高真空磁控溅射镀膜设备
高真空磁控溅射镀膜设备
负责人员
梁军生, 王海刚, 孔铭扬, 王瀚彬, 徐德志, 徐如亮, 占艳锋
存放地址
主校区-知方楼（新校区机械学院大楼）-2077(2079)
联系电话
13804962419
仪器编号
20237912
规格
JCP600
生产厂家
北京泰科诺科技有限公司
型号
JCP600
制造国家
中国
分类号
0306030208
出厂日期
2023-09-01
购置日期
2023-09-01
入网日期
2024-02-18
主要规格及技术指标

该高真空磁控溅射镀膜设备为定制设备，具有 4个3英寸溅射靶位，4个4英寸工位台，溅射均匀性：≤±5%，真空极限：8.0×10-5 Pa，腔室加热：室温~500℃。

主要功能及特色

具备多种难加工金属、非金属氧化物复合膜的多模式沉积和成分调控功能，主要解决具有特定热-力-电性能的多层异质复合功能厚膜（~20μm，Al2O3-SiO2系列、ITO-PtRh系列）的多工位连续沉积问题。

主要附件及配置

无
暂无关联门禁
暂无收费信息