主要规格及技术指标
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该设备基于单分子荧光定位SMLM成像技术,可达~20nm XY分辨率, ~50nmZ轴分辨率,满足超高分辨率的研究需求。配备488,561,642nm三根500mW高功率激光器,及405nm,50mW高精度激光器;100x/1.46油镜,63x/1.46油镜,63x/1.4油镜,10x/0.3物镜;全电动落射荧光(EPI)、斜照明(HILO)及全内反射照明(TIRF),电动切换。内置多点拟合算法,加速采集过程,实现高密度荧光标记采用相位斜坡技术实现3D成像,单次成像厚度达1.4微米;EMCCD相机。 |
主要功能及特色
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基于单分子荧光定位SMLM成像技术,用于细胞中荧光标记分子和结构检测,深层组织和亚细胞结构超高分辨率成像。 |
主要附件及配置
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无 |