（1）射频容性耦合等离子体腔室
1）腔室结构：柱状结构，由上下两个腔室、上下基板、配气系统和检测机构组成，腔室放置于型材架台上，高度可调。
2）尺寸：腔室内径≥Φ300 × 300 mm，上下基板≥Φ200 mm，基板间距可调。
3）工艺要求：不锈钢304材质，内外电解抛光，漏率≤1*10-12 mbar.l/s。
4）真空度：≤2×10-6 Pa，配水冷分子泵
5）配气系统：三路气体独立或者混合进入，均匀喷洒
（2）射频感性耦合等离子体腔室
1）腔室结构：柱状结构，由上下两个腔室、上下基板、配气系统和检测机构组成，腔室放置于型材架台上，高度可调。
2）尺寸：腔室内径≥Φ300 × 300 mm，上基板设置石英板。

（1）能在低气压条件下高效、稳定的产生等离子体，用于等离子体刻蚀、薄膜沉积等方面的实验；（2）由两个腔室构成，分别用于射频容性耦合等离子体产生及射频感性耦合等离子体的产生，用于研究不同放电模式下的等离子体刻蚀技术。

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