该真空仪器主要包括三个模块：电子束/热蒸发、原子层沉积、电感耦合等离子体刻蚀，目前三个模块独立使用，每个模块技术指标如下：
电子束/热蒸发模块：极限真空度≤6.6x10-5Pa；6个蒸发源，低压蒸发电源6V, 300A，高压蒸发电源功率10KW，阳极电源6-10kV连续可调，电流0-1A，无油分子泵真空系统，4英寸加热以及GLAD掠射样品台；
原子层沉积模块：主控系统为PLC；配备4路前驱体源输送管路，常温源1路，加热源2路，载气辅助源1路；所有 ALD 阀门具备自动排空功能和清洗功能；
电感耦合等离子体刻蚀模块：等离子体源 1000W/300W@13.56MHz，自动匹配；循环水冷控温样品台；可实现硅基和有机物刻蚀；配置4 路工艺气体（O2、Ar、SF6/CF4、CHF3）。

电子束/热蒸发模块：可在4英寸基底上实现常见金、银、铝、铜、钛等贵金属垂直以及方向可调纳米薄膜沉积，用于制备常规金属纳米结构以及手性纳米结构；
原子层沉积模块：在70度和150度下可实现二氧化硅、三氧化铝和二氧化钛等介质层的原子级厚度可控生长；
电感耦合等离子体刻蚀模块：实现6英寸硅基和有机物可控刻蚀。

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