主要规格及技术指标
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沉积方式:Langmuir-Blodgett(LB)垂直提拉,Langmuir-Schaefer(LS)水平转移。膜厚控制:0.1~100 nm(分子层精度±0.1 nm)。压力范围:0~100 mN/m(表面压力传感器,精度±0.1 mN/m)。基底兼容性:硅片、玻璃、聚合物薄膜等(尺寸≤4英寸)。环境控制:温度调节:15~40℃(±0.5℃);气氛可选:空气、惰性气体(N₂/Ar) |
主要功能及特色
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单分子膜制备:精确组装两亲性分子(如脂质、聚合物)成单层或多层膜。原位表征:同步测量表面压力-面积(π-A)等温线,分析分子排列密度。薄膜性能测试:结合AFM、椭偏仪等分析膜厚、均匀性、机械性能(如杨氏模量)。功能化薄膜构建:制备生物传感器、光电材料(如量子点薄膜)的功能基底。 |
主要附件及配置
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无 |