真空气相薄膜沉积系统
真空气相薄膜沉积系统
负责人员
王宇迪
存放地址
主校区-知化楼（新校区化工综合楼）-C118
联系电话
13149886493
仪器编号
20245401
规格
SC-WT-210
生产厂家
昆山晟成光电科技有限公司
型号
SC-WT-210
制造国家
中国
分类号
Dalian University of Technology
出厂日期
2024-10-12
购置日期
2024-07-16
入网日期
2024-10-12
主要规格及技术指标

额定功率65KW，额定电压AC380V，额定电流90A，工作频率50Hz
各腔室真空度：高温腔≤1 E-04 Pa、低温腔≤1 E-04 Pa、雾化腔≤5 E-01 Pa
压力可调范围5E-4Pa --1atm、系统漏率5×10-9 Pa.m3/s
薄膜有效沉积面积182mm*182mm、薄膜不均匀性≤±5％、六蒸发电源、六探头。

主要功能及特色

真空气相薄膜沉积系统，适合精确控制新型半导体材料钙钛矿的多步真空沉积以及后续反应成膜、以及薄膜表面处理和改性等领域。

主要附件及配置

无
暂无关联门禁
暂无收费信息