主要规格及技术指标
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极限真空 10-6Pa,温控范围为室温至800摄氏度,电源功率1000W |
主要功能及特色
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支持同时安装多个靶材(如金属、氧化物、氮化物等),实现单层或多层薄膜的高效沉积。支持射频(RF)和直流(DC)溅射模式,适应不同材料需求。磁控溅射速率快,薄膜均匀性好,附着力强。真空系统与高纯靶材结合,减少杂质污染,薄膜性能优异。 |
主要附件及配置
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无 |