1，汞灯灯源，宽波段NUV （365nm-405nm）混合光
2，光源功率最高600W（尽量不超过550W），光强通过功率可调节。
3，掩模对准模块（卡盘、掩模夹具、对准台），具有2、4、6、8英寸四套配置。
4，可实现硬接触、软接触、间隙曝光等多种方式的曝光。
5，光刻精度约 0.8 μm. 极限状态下可达0.4μm。

1，ABM高性能掩模对准系统和紫外线曝光系统旨在提供精确、可重复的掩模对准和曝光，适用于涂覆有光敏材料的晶圆/基板。
2，ABM掩模对准系统可提供多种配置（2、4、6、8英寸）。该系统采用模块化设计，集成了所有必要的功能，以在具有广泛物理尺寸和光刻特性的材料上实现高质量的对准和图案化。
3，ABM半自动/手动掩模对齐器系统采用可编程逻辑控制器（PLC），包括一个PLC和一个具有图形用户界面（GUI）的触摸屏模块，可以在半自动或手动模式下操作。

a. 掩模对准工具模块（卡盘、掩模夹具、对准台）
b. 控制系统（带触摸屏和图形用户界面）
c. 成像和对准光学系统
d. 准直NUV、MUV或DUV光源系统
e. 灯电源/控制器
f. 振动隔离/吸收台