1.离子枪:两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与 聚 焦极）潘宁离子枪，聚 焦 离子束设计；2.抛光角度: +10°到 -10°，每个离子枪可独立调节；3.离子束 能 量:100 V 到 8.0 kV；4.样品旋转：0.5到6 rpm连续可调；5.束流调制： 离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光6.液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤。

氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。

无