极限真空度：≤9×10^-2 Pa；样片数量及尺寸：Φ4英寸，1片；薄膜不均匀性：≤±5%，Φ4英寸范围；

用于薄膜材料的离子束辅助沉积与镀膜研究，可开展功能薄膜、保护薄膜及相关材料表面沉积与改性，具有成膜质量高、工艺可控性较好、适用于多种薄膜制备工艺等特点。

样片旋转机构、靶材转换机构、聚焦束溅射主源系统、准直束溅射辅助源、分子泵、真空泵、冷却水机、静音空气压缩机