‌衬底尺寸‌：可达150mm。
‌工艺温度‌：室温至400°C。
‌前驱体数量‌：可增加至6个。
‌尺寸‌：585mm x 560mm x 980mm‌

‌沉积单原子层超薄膜‌：通过精确控制媒质的流量和使用清除媒质，保证了一次只沉积一层指定要求的单原子层超薄膜‌
‌高密度等离子体刻蚀‌：具备高密度等离子体刻蚀功能，适用于各种形状的衬底‌
多腔体设计‌：系统含有两个腔体：真空腔和沉积反应腔，有效地防止温度和真空度的泄漏，保持稳定的沉积反应条件，成膜均一细致无漏点‌
‌前驱体化学品流动方式‌：前躯体化学品在反应腔中流动方向类似花伞喷射，垂直沉积于基体上，快速稳定‌
‌薄膜厚度控制‌：可以通过控制反应周期数简单精确地控制薄膜的厚度，形成达到原子层厚度精度的薄膜‌
广泛适用性‌：可广泛适用于各种形状的衬底，适用于沉积氧化物、氮化物等薄膜材料‌
‌高稳定性和耐腐蚀性‌：前驱体源装置稳定可靠，可以使用20年；沉积腔表面经过耐腐蚀处理，能够适应氯化物和氟化物等前驱体化学品的强腐蚀‌

前驱体输运系统；载气系统；臭氧发生器