四靶磁控溅射系统
四靶磁控溅射系统
负责人员
雷明凯, 李昱鹏
存放地址
主校区等离子实验室门卫
联系电话
84707255
仪器编号
21020779
规格
JGP600型
生产厂家
沈阳慧宇真空技术有限公司
型号
JGP600型
制造国家
中国
分类号
03060302
出厂日期
2010-12-21
购置日期
2010-12-21
入网日期
2019-06-27
主要规格及技术指标

靶材 440×140×6mm 样品台 300mm

主要功能及特色

靶材前方因辉光放电等离子体产生的高能离子对靶材进行轰击 ，靶材上的原子被溅射出去并沉积在基体或工件表面冷凝形成薄膜 。

主要附件及配置

无
暂无关联门禁
暂无收费信息