双室磁控溅射沉积系统
负责人员
黄昊, 李晓娜, 王俊舟
存放地址
主校区三束实验室4号楼（出版社楼）111
联系电话
13700111620
仪器编号
20163053
规格
非标定制
生产厂家
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
型号
非标定制
制造国家
中国
分类号
0306030201
出厂日期
2016-12-09
购置日期
2016-12-09
入网日期
2019-06-26
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主要规格及技术指标
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极限真空度≤8.0*10-6Pa，漏气率：6.67*10-7Pa/S，系统段时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气，溅射室40分钟可达到6.6*10-4Pa；进样室40分钟可达到6.6*10-4Pa |
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主要功能及特色
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该设备是最常用的一种物理气相沉积技术，可用于制备金属、半导体、绝缘体等多种薄膜材料，具有设备成熟、易于控制、镀膜面积大、附着力强等优点。 |
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主要附件及配置
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直流磁控溅射模式 |
暂无关联门禁
暂无收费信息
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