等离子体化学气相沉积
等离子体化学气相沉积
负责人员
陈莉, 徐征, 王天娆
存放地址
主校区机械学院2号楼(电信实验楼)111
联系电话
0411-84707713-8110/8112/2193
仪器编号
21304165
规格
NGP80
生产厂家
牛津仪器公司
型号
NGP80
制造国家
英国
分类号
03060305
出厂日期
2013-07-17
购置日期
2013-07-17
入网日期
2020-07-21
主要规格及技术指标

样品尺寸:≤8 英寸
薄膜均匀性(4 inch):<±2%
薄膜应力:<300MPa 压应力
击穿电压:>5MV/cm

主要功能及特色

主要用于微纳加工中绝缘层的沉积,一般在小于等于8英寸的晶片上沉积SiO2和SiNx薄膜。

主要附件及配置

暂无关联门禁
进口PECVD长膜≤1μm,校内1040元/次,校外1560元/次; 1μm<进口PECVD长膜≤2μm,校内1820元/次,校外2730元/次; 2μm<进口PECVD长膜≤3μm,校内2600元/次,校外3900元/次; 3μm<进口PECVD长膜≤4μm,校内3380元/次,校外5070元/次; 标准定价为普通标准工艺;若有特殊、复杂工艺,考虑到成品率等影响因素,则价格另议。 若工艺成本增加,则价格可能要有适当浮动。