主要规格及技术指标
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样品尺寸:≤8 英寸 |
主要功能及特色
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主要用于微纳加工中绝缘层的沉积,一般在小于等于8英寸的晶片上沉积SiO2和SiNx薄膜。 |
主要附件及配置
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无 |