化学机械抛光试验台
化学机械抛光试验台
负责人员
朱祥龙
存放地址
主校区知方楼(新校区机械学院大楼)U072(078)
联系电话
15998535043
仪器编号
20069123
规格
CP-4
生产厂家
Center for Tribology
型号
CP-4
制造国家
中国
分类号
03061850
出厂日期
2006-11-03
购置日期
2006-11-03
入网日期
2019-06-27
主要规格及技术指标

抛光头转速:1-500rpm
2英寸晶圆头压强范围:0.29-29psi
4英寸晶圆头压强范围:0.07-7.2psi
压力分辨率:20mN
抛光盘转速:1-500rpm
抛光盘尺寸:直到9in(228mm)
温度测量范围: -25 - 1000°C
声发射响应范围: 0.2 - 5.0MH

主要功能及特色

能够提供广泛的抛光压力 、速度、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具,可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材性能,适用于小尺寸到100mm晶圆抛光,具有抛光垫修整功能

主要附件及配置

暂无关联门禁
暂无收费信息