超高真空磁控溅射设备
超高真空磁控溅射设备
负责人员
马春雨
存放地址
主校区厚望楼（机械学院2号楼）B102
联系电话
15998586491
仪器编号
20035120
规格
JGPG
生产厂家
中科院沈阳科学仪器研
型号
JGPG
制造国家
中国
分类号
03060302
出厂日期
2003-11-25
购置日期
2003-11-25
入网日期
2021-03-29
主要规格及技术指标

真空系统：机械泵+分子泵，背底真空度1×10-5Pa，三个靶磁控溅射靶，靶尺寸为60mm；基片温度：室温—800℃，电源功率：500W。

主要功能及特色

可以氧化物、氮化物等的单层、多层膜制备。

主要附件及配置

无
暂无关联门禁
暂无收费信息